第134章 接受军方任务
  苏砚醒来的时候,床的另一侧已经空了,摸著还带有余温的床铺,苏砚有些悵然若失。
  不过,洗漱完之后,她就已经恢復了常態。
  在去实验楼的路上,苏砚就被师兄江鸣半路劫走,直接去了卢教授的办公室。
  一进门,卢教授正在和曹主任喝著茶水閒聊,看到苏砚进来,曹主任立刻热情的起身打招呼。
  “小苏同志,好久不见啊!”
  苏砚点头笑著回应,“曹主任,我们好像也就几天没见吧?”
  “哎呀,小苏,你可不知道,我们部队通讯部上下研读了你给我们的《无线电通讯维修要领》,和《寒区升级收音方案》资料,简直醍醐灌顶,受益匪浅啊。
  我们对你真是想念的紧,这不,我受领导委託又来麻烦你出马,给我们解决问题来了。”
  苏砚客气的笑笑,有些不知道怎么回答,她们学生可以直接跨过老师接受外面的任务吗?
  她不太了解,就將目光调转到卢教授身上。
  卢兴德摸著下巴看著自己抢来的这个学生,越看越是满意,此刻接受到学生疑惑的目光,他起身解释道。
  “鑑於你出色的能力,这件事还跟你前一段日子创造出来的小型集成电路有关。这个任务还真的非你莫属。
  这是国家相信你的能力,你可別推辞啊!”
  苏砚心里有底,这才好奇问道,“是什么任务啊?”
  “上面希望將你的小规模集成电路量產,用於替代进口零散 ic,优先保障军品供给。
  我们想將军用电台、仪器仪表等国防关键装备都更换上我们国產的集成电路。”
  这是好事啊!
  苏砚立刻眼睛放光,当即应允,“可以,什么时候开始?”
  曹主任闻言哈哈大笑,转头对卢兴德教授道,“教授,真不愧是您的学生,这性子就是急。我们想给你三天准备时间,你看够不?”
  “不用三天准备,我现在就可以走。”苏砚回道。
  革委会那边资料已经健全,却迟迟等不来回信,虽然听倪虹说,陆廷州已经查到了那个主任的把柄,將人弄下去又换了个主任,可按照正常流程来说,还要两三个月才能批覆下来结果。
  还有一个多月就过年了,苏砚希望在一个月內搞定量產的事情,然后她就可以凭藉军功,风风光光去乡下將养父养母接回来过年。
  看著苏砚亮闪闪的眼神,曹主任哈哈大笑,“行,那就现在走。不过,这次任务比较繁重,我们在京市光东工厂这边定下生產线后,还要去海城那边搞一条同样的生產线,你能出差吗?”
  “完全没问题。”苏砚点头回道。
  “行,那你现在就回去收拾东西,我就在这等著你。”曹主任也是个雷厉风行的人。
  苏砚回宿舍简单收拾了几件换洗衣物,仅仅十分钟后就返回。
  曹主任也没有二话,开车带著苏砚直奔国营光东工厂。
  101看书 追书就去 101 看书网,?0???????.??????超方便 全手打无错站
  在曹主任的陪伴下,这里没有任何人为难看起来就很年轻的苏砚,大家都客客气气接受她的指导。
  国营光东电工厂超净车间密闭无尘,恆温系统持续运转,滤尘设备发出细碎平稳的嗡鸣,消解了所有多余的声响。
  整间车间笼罩在半导体工艺专用的暖黄色安全灯下,褪去了刺眼的白光,只为保护光刻胶涂层不受光线干扰。
  空气里浮动著高纯氮气、光刻胶与有机溶剂交织的清冷淡味,每一寸空气都经过层层过滤,连飘落的微尘都近乎绝跡。
  身著全套白色洁净服的眾人包裹得严严实实,头罩、口罩、无菌手套、无尘鞋缺一不可,只露出一双双凝神专注的眼睛,在暖黄灯光下熠熠生辉。
  苏砚佇立在光刻工艺操作台旁,身姿挺拔沉稳。
  连日扎根车间通宵调试,她的眼底藏著淡淡的青黑,眉眼间却没有半分疲態,只剩极致的专注与篤定。
  面前的操作台一尘不染,整齐摆放著待测试的硅片、精密镊子、刻度记录本与调试工具,页面上密密麻麻写满了叠代数百次的工艺参数。
  柵氧生长温度、扩散炉恆温时长、光刻对准误差、源漏掺杂配比,每一组数据都是她依託成熟的dtl双极工艺,反覆推翻、反覆调试摸索出的关键依据。
  身旁两名年轻技术员正俯身紧盯显微镜,反覆核对刚出炉的pmos管芯切片,神情紧绷,眉宇间藏著一丝焦灼。
  这段时间,他们最大的难题始终是柵极边缘毛刺、局部掺杂不均,屡屡拉低硅片成品率,好几次即將成型的工艺参数,都因这两处瑕疵功亏一簣。
  年轻技术员压著心底的忐忑,轻声匯报,声音被口罩闷得低沉含糊。
  “苏工,这批试样还是老问题。光刻显影后,柵极线条边缘不够平滑,有细微毛刺,而且部分片区掺杂浓度偏差超標,达不到量產標准。
  我们按照原dtl工艺参数微调过几次,偏差反而更大。”
  苏砚闻言没有立刻开口责备,只是微微頷首,抬手微调显微镜焦距,动作轻柔稳当,力道精准分毫不差。
  她俯身凑近目镜,目光沉沉落在微小精密的管芯结构上,细细观察纹路、涂层与掺杂层次,几秒后便精准摸清了问题根源。
  她直起身,指尖轻点记录本上的两组核心参数,语气平稳温和,却带著不容置疑的专业底气,字字清晰、条理分明。
  “dtl是双极工艺,和我们现在攻坚的pmos工艺底层逻辑完全不同,不能直接套用老参数。
  双极工艺侧重电流放大,而pmos核心在柵氧层的均匀度和可控性,生搬硬套只会出现边缘畸变、掺杂失衡。”
  说著,她侧身让出操作台的位置,示意技术员上前实操观摩。
  暖黄灯光落在她洁净服肩头,沉稳的嗓音在机器嗡鸣中清晰传开,耐心拆解每一处操作细节。
  “接下来调整两组关键参数。第一,把氧化炉恆温区间上调三摄氏度,延长二十分钟恆温保持时间,让柵氧层生长得更均匀致密,从根源减少边缘毛刺。
  第二,降低离子注入速率,放慢掺杂进度,寧可慢一点,也要保证整片硅片的掺杂浓度均匀统一,杜绝局部偏差。”
  两名技术员连忙上前,一人紧盯仪器錶盘记录参数,一人俯身核对显微镜下的管芯状態,紧绷的神经渐渐鬆弛。
  苏砚一边紧盯设备运行状態,一边趁热打铁,纠正团队固化的老工艺思维。
  “大家要记住,我们现在是在成熟的dtl工艺线上,硬生生开拓mos集成电路的量產路径,不是简单的参数微调,而是工艺体系的革新。
  以往进口零散ic参数杂乱、没有统一標准,我们现在每一次精准调试,都是在搭建属於我们自己的国產工艺规范。”
  她抬手拿起一片调试合格的硅片,举到灯光下,薄如蝉翼的硅片泛著清冷细腻的光泽,规整均匀的电路纹路清晰可见。
  “你们看,合格的pmos小规模集成电路,线条平直无毛刺、掺杂均匀无偏差,这就是我们要落地的量產標准。
  后续我们制定的逻辑ic、运算放大器国產规范,就要以这套工艺参数为基准,彻底摆脱对进口晶片的依赖,优先保障军用电台、精密仪器仪表的核心供给。”